9月19日，美国公司Zyvex实验室宣布世界上最高分辨率的光刻系统——ZyvexLitho1TM。该工具采用量子技术，实现了0.768纳米的原子级精密图案和亚纳米级分辨率。
ZyvexLitho1TM是基于Zyvex实验室自2007年以来一直在改进的扫描隧穿显微镜（STM）仪器，是一个完整的扫描隧穿光刻系统，具有任何其他商业扫描隧穿光刻系统不具备的功能：能够实现无失真成像、自适应电流反馈回路、自动晶格对准、数字矢量光刻、自动化脚本和内置计量。完整的ZyvexLitho1TM系统还包括一个为制造量子器件而配置的ScientaOmicron超高真空STM（扫描隧穿显微镜）。
STM光刻技术的发明者、2014年费曼奖得主、伊利诺伊大学教授Joe Lyding表示：“到目前为止，Zyvex实验室的技术是最先进的，也是这种原子级精确光刻技术的唯一商业化实现。”
Zyvex 实验室是美国一家致力于生产原子级精密制造工具的纳米技术公司。ZyvexLitho1TM是在DARPA（国防高级研究计划局）、陆军研究办公室、能源部先进制造办公室和德克萨斯大学达拉斯分校的Reza Moheimani教授的支持下完成的，他被国际自动控制联合会授予工业成就奖，“以支持单原子规模的量子硅设备制造的控制发展”。
资料来源：
https://www.zyvexlabs.com/apm/products/zyvex-litho-1/physics-of-zyvex-litho-1/